1. 前言 蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术. 蚀刻技术可以分为『湿蚀刻』(wet etching)及『干蚀刻』(dry etching)两类.在湿蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,而干蚀刻通常是一种电浆蚀刻(plasma etching),电浆蚀刻中的蚀刻作用,可能是电浆中离子撞击晶片表面的物理作用,或者可能是电浆中活性自由基(Radical)与晶片表面原子间的化学反应,甚至也可能是这两者的复合作用. 在航空.机械.化学工业中,蚀刻技术广泛地被使用于减轻重量…