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PVD与CVD性能比较 CVD定义: 通过气态物质的化学反应在衬底上淀积一层薄膜材料的过程. CVD技术特点: 具有淀积温度低.薄膜成分和厚度易于控制.均匀性和重复性好.台阶覆盖优良.适用范围广.设备简单等一系列优点. CVD方法几乎可以淀积集成电路工艺中所需要的各种薄膜,例如掺杂或不掺杂的SiO2.多晶硅.非晶硅.氮化硅.金属(钨.钼)等. 影响台阶覆盖性的关键在于气相沉积技术的"绕镀性". 气相沉积技术按照其原理可以分为化学气相沉积(CVD, Chemical Vapor Depo…
摄像头PVD和CVD薄膜 在FDP 的生产中,在制作无机薄膜时,可以采用的方法有两种:PVD 和CVD (将VE 和VS 归于PVD ,而ALD 归于CVD). Physical Vapor Deposition (PVD) Physical Vapor Deposition (PVD)称为物理气象沉淀技术.该技术在真空条件下,通过先将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子.分子,或部分电离成离子,通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积,具有某种特殊功能的薄膜的技术. PVD 沉积流程,…
ALD对照CVD淀积技术的优势 ALD 适合制备很薄的高K金属氧化物层,对腔室的真空度要求比较高,对反应气体源及比例的要求也较高. 目前沉积速率还是比较慢,大大限制了其在工业上的推广应用,不过随着设备技术的不断进步,包括ALD系统,前景还是很值得期待的. ALD 除了常规的半导体高K 材料,太阳能等领域,军事上的用途: MCP , 热和快中子探测等领域. 应用范围会越来越广,只是,沉积速率,成本和价格的问题,在制约推广. 如果说严重不足应该是源的问题,不像CVD的源那样广 有了合适的源,ALD才…
2014-06-01 Created By BaoXinjian…
ALD和CVD晶体管薄膜技术 现代微处理器内的晶体管非常微小,晶体管中的一些关键薄膜层甚至只有几个原子的厚度,光是英文句点的大小就够容纳一百万个晶体管还绰绰有余.ALD 是使这些极细微结构越来越普遍的一种技术. ALD 工艺直接在芯片表面堆积材料,一次沉积单层薄膜几分之一的厚度,以尽可能生成最薄.最均匀的薄膜.工艺的自限特性以及共形沉积的相关能力,是其成为微缩与 3D 技术推动因素的基础.自限式表面反应让原子级沉积控制成为可能:薄膜厚度仅取决于执行的反应周期数.表面控制会使薄膜保持极佳的共形性和…
背景起因: 记起以前的另一次也是关于内存的调优分享下   有个系统平时运行非常稳定运行(没经历过大并发考验),然而在一次活动后,人数并发一上来后,系统开始卡. 我按经验开始调优,在每个关键步骤的加入如下代码耗时统计进行压测:   long startTime = System.currentTimeMillis();  callRpc();   //这里比如调用RPC伪代码,当然还在插入数据库,中间件地方都加入统计  long costTime = (System.currentTimeMill…
汇总篇:http://www.cnblogs.com/dunitian/p/4822808.html#tsql 文章内容皆自己的理解,如有不足之处欢迎指正~谢谢 前天有学弟问逆天:“逆天,有没有一种方式可以让我一个表存到两个数据库文件中,或者说怎么把一个表的数据平摊到其他数据库文件中?” (⊙o⊙)…,逆天数据库优化不是很强悍,不过类似的情景倒是见过,可以给你一个思路.比如说我们在创建数据库的时候就可以好好利用文件组. 举个例子: 我们一般创建数据库都是这么来的: create database…
汇总篇:http://www.cnblogs.com/dunitian/p/4822808.html#tsql 概  述:http://www.cnblogs.com/dunitian/p/6041323.html#com 以下内容皆为个人摸索,没有人专门指导(公司不给力啊!DBA和大牛都木有...),所以难免出错,如有错误欢迎指正,小子勇于接受批评~(*^__^*) ~ 水平分库分表和垂直分库分表,大家都经常谈,我说下我的理解,看图: 垂直分表就不用说了,基本上会SQLServer的都会. 垂…
目录 SignalR系列目录 前言 也是好久没写博客了,近期确实很忙,嗯..几个项目..头要炸..今天忙里偷闲.继续我们的小系列.. 先谢谢大家的支持.. 我们来聊聊SignalR的性能监测与服务器的负载测试 我们开发任何一个应用,他的性能监测是很重要的参考数据,关系着我们后期优化,更新,改动..等等... SignalR作为一个及时通讯的框架,稳定性,及时性,延迟这些,更是需要全方位的监测 (就不多废话了,大家都懂) 负载测试...  装个大点的B.. 人家淘宝爸爸双十一这么大的访问压力,就是…