UV贴图类型

 

凹凸贴图Bump Map、法线贴图Normal Map、高度贴图Height map、漫反射贴图Diffuse Map、高光贴图Specular Map、AO贴图Ambient Occlusiont Map 环境光遮蔽、灯光烘焙贴图Light Map 、细节贴图Detail Map、反照率贴图Albedo Map、金属度贴图 Metallic Map、自发光贴图 Emission Map、视差贴图Parallax Map、置换贴图Displacement Map 位移贴图

 

 

凹凸贴图Bump Map

凸凹贴图可以给贴图增加立体感。它其实并不能改变模型的形状，而是通过影响模型表面的影子来达到凸凹效果的。两种不同类型的凸凹贴图，法线贴图（normalmap）和高度贴图(highmap)。

 

法线贴图Normal Map

在切空间中保存模型顶点法线方向，烘焙法线，烘焙的就是这个。可增加模型凹凸立体感。

 

高度贴图Height map

高程灰度图，可创建地形。可用于创建法线贴图。

 

漫反射贴图Diffuse Map

保存漫反射效果，表现出物体表面的反射和表面颜色。

 

高光贴图Specular Map 镜面

表现镜面反射和物体表面的高光颜色。

 

AO贴图Ambient Occlusiont Map 环境光遮蔽

描绘物体和物体相交或靠近的时候遮挡周围漫反射光线的效果，改善细节尤其是暗部阴影。

 

灯光烘焙贴图Light Map

保存光照计算结果。

 

细节贴图Detail Map

细节贴图允许在之前主要纹理基础上叠加第二组纹理。增加细节。

 

反照率贴图Albedo Map 反射

用于体现模型的纹理，颜色。

 

金属度贴图 Metallic Map

用于体现模型的金属高光反射。

 

自发光贴图 Emission Map

模型自发光。

 

视差贴图Parallax Map

优化法线贴图，改变纹理坐标，根据视线方向和存储在纹理中的几何信息对顶点进行位移或偏移，产生更真实的层次感。

陡峭视差贴图(Steep Parallax Mapping)、视差遮蔽贴图(Parallax Occlusion Mapping)、浮雕贴图（Relief Mapping）、圆锥跟踪贴图（Cone Mapping ）、带偏移限制的视差贴图（Parallax Mapping with offset limiting）。

 

置换贴图Displacement Map 位移贴图

通过micropolygons（微多边形）tessellate（镶嵌）的技巧修改模型表面细节。

 

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